Евгений Александрович Емельянов, М. О. Петрушков, Иван Дмитриевич Лошкарев
{"title":"МЛЭ твёрдых растворов GaPxAs1-x на вицинальных подложках: влияние отклонения\u0000на состав пленок","authors":"Евгений Александрович Емельянов, М. О. Петрушков, Иван Дмитриевич Лошкарев","doi":"10.34077/rcsp2021-38","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-38","url":null,"abstract":"В данной работе было исследовано влияние отклонения подложки GaAs от сингулярной грани (100)\u0000в направлении [110] на 0°, 1°, 2°, 3°, 5° и 7° на состав твёрдых растворов GaPxAs1-x. Слой твёрдого\u0000раствора выращивался одновременно на положках всех ориентаций. Использовались потоки молекул\u0000As2 и P2, скорость роста составляла 1 МС/с, Ts = 500°С, толщина плёнки - 1 мкм. Выращенные образцы\u0000были исследованы методом высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"28 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"116777046","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}