{"title":"Особенности эффекта поля в квазиодномерном слоистом\u0000полупроводнике TiS3 / Горлова И.Г., Фролов А.В., Орлов А.П., Шахунов В.А., Покровский В.Я","authors":"","doi":"10.34077/semicond2019-143","DOIUrl":"https://doi.org/10.34077/semicond2019-143","url":null,"abstract":"В слоистом квазиодномерном полупроводнике TiS3 недавно обнаружен пик эффекта Холла при\u0000T060 K и резкое увеличение нелинейной проводимости при T<T0 [1]. Эти аномалии могут быть\u0000связаны с фазовым переходом в конденсированное электронное состояние [1]. Интерес к\u0000исследованию TiS3 обусловлен также возможным практическим применением слоистых\u0000халькогенидов в наноэлектронике. На нанослоях TiS3 созданы первые полевые транзисторы [2].\u0000В данной работе представлены результаты исследования эффекта поля на\u0000монокристаллических вискерах TiS3. Структуры типа полевого транзистора изготовлены на основе\u0000вискеров толщиной 100 – 200 нм. Измерены зависимости сопротивления R от напряжения Vg на\u0000затворе, а также R(T) и ВАХ при различных Vg. Наклон зависимостей R(Vg) соответствует\u0000проводимости n-типа в диапазоне 4.2 –300 К, что подтверждает и дополняет результаты по\u0000измерению эффекта Холла до 30 К [1]. Полученное значение эффективной подвижности,\u0000µeff(300 K)20 см2\u0000/В сек и ее температурная зависимость согласуются с данными по эффекту поля на\u0000нанослоях TiS3 [2]. При этом, µeff(300 K) в 2 раза меньше значения холловской подвижности µH [1], и\u0000это расхождение растёт с понижением T.\u0000C понижением температуры от 300 К до 80 К чувствительность сопротивления к напряжению\u0000на затворе, 1/R dR/dVg, возрастает, отражая снижение концентрации электронов n в зоне\u0000проводимости. Ниже 80 К обнаружено резкое многократное уменьшение эффекта поля.\u0000Температурные зависимости эффекта поля и эффекта Холла качественно похожи, но пик\u00001/R dR/dVg наблюдается при 80 К, на 20 К выше пика холловского сопротивления [1]. К снижению\u0000обеих характеристик при низких температурах могут приводить локализационные эффекты или\u0000появление носителей p-типа. Однако спад эффекта поля при более высокой температуре, чем эффекта\u0000Холла, логично объяснить переходом наведённых электронов в коллективное состояние, например,\u0000волну зарядовой плотности (ВЗП). Уменьшение эффекта поля при образовании ВЗП ранее\u0000наблюдалось в TaS3; температурные зависимости эффекта поля и эффекта Холла, подобные\u0000полученным на TiS3, наблюдалось в другом соединении с ВЗП – NbSe3 [3]. Отличие µeff и µH выше T0\u0000можно объяснить снижением µ с ростом n. Вместе с тем, флуктуационные переходы наведённых\u0000электронов в конденсированное состояние также могут объяснить снижение µeff/µH при приближении\u0000к T0 сверху.\u0000Переход наведённых электронов в коллективное состояние при T060 К подтверждается и\u0000влиянием эффекта поля на нелинейную проводимость вискеров. Выше T0 напряжение на затворе\u0000приводит лишь к сдвигу зависимостей дифференциальной проводимости, ddI/dV, от V на\u0000постоянную величину, то есть, нелинейная проводимость, d(V)-d(0), не зависит от Vg. Ниже T0 при\u0000изменении Vg вид ВАХ меняется: нелинейная проводимость увеличивается с ростом n.\u0000Интересно, что T0 также зависит от Vg: чем выше n, тем ниже T0. Аналогичным образом T0\u0000зависит от n, если сравнивать образцы с разной концентрацией вакансий серы.","PeriodicalId":213356,"journal":{"name":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","volume":"83 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2019-08-20","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"124995342","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}