{"title":"Особенности туннельного тока в сверхрешетках с электрическими\nдоменами / Алтухов И.В., Каган М.С., Папроцкий С.К., Хвальковский Н.А., Дижур С.Е., Кон И.А.,\nВасильевский И.С., Виниченко А.Н., Баранов А.Н., Teissier R.","authors":"","doi":"10.34077/semicond2019-165","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"При комнатной температуре исследовались короткопериодные сверхрешетки (СР) двух типов:\nСР 4 нм GaAs / 2 нм AlAs, (100 периодов) и 4,5 нм InAs / 3,5 нм AlSb (85 периодов), выращенных с\nпомощью молекулярно-лучевой эпитаксии. СР были расположены между сильно легированными\nверхним контактным слоем n+\n-GaAs и, соответственно, n+\n-InAs и сильно легированной (~ 1019 см-3)\nподложкой из тех же материалов. СР были легированы мелкими донорами в концентрации\n2*1017 см-3. Перед нанесением контактного металла (золота) пластинка с вытравленными мезами\nпокрывалась диэлектриком (нитрид кремния). Изучался туннельный ток в условиях образования\nэлектрических доменов, возникавших из-за наличия отрицательной дифференциальной\nпроводимости в некоторой области напряжений при резонансном туннелировании электронов между\nсоседними квантовыми ямами (механизм Esaki-Tsu). К образцам прикладывались треугольные\nимпульсы напряжения с временем нарастания 0.5-10 μсек. Из зависимостей напряжения и тока от\nвремени восстанавливались вольтамперные характеристики (ВАХ) при прямой и обратной развертке\nнапряжения.\nПри напряжениях выше порога образования доменов наблюдались следующие эффекты. 1.\nГистерезис тока при прямой и обратной развертке напряжения. 2. Серия максимумов на вольтамперных характеристиках (ВАХ), почти эквидистантных по напряжению. 3. Большой фотоотклик на\nмежзонное освещение (светодиод или лампа накаливания 2,5 Вт); фототок мог достигать 50% от\nтемнового. Предложено объяснение этих эффектов, так или иначе связывающее их с треугольной\nформой домена сильного поля, обусловленной полным опустошением доноров внутри домена.\nГистерезис интерпретируется как переход между режимами с движущимся и статическим доменом.\nПри образовании статического домена на ВАХ появлялся участок с насыщением тока. Максимумы на\nВАХ объясняются туннельными переходами между квантовыми ямами в треугольном домене,\nсопровождающимися испусканием оптических фононов. Большой фотоотклик также связывается с\nтреугольной формой домена с протяженной областью полного опустошения доноров, где\nконцентрация свободных носителей крайне мала.","PeriodicalId":213356,"journal":{"name":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","volume":"50 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-08-20","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/semicond2019-165","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

在室温下,研究了两种类型的短波超晶格(cp): 4 nm GaAs / 2 nm AlAs(100个周期)和4.5 nas / 3.5 nas(85个周期)。sr位于n+ GaAs和n+ InAs之间的高合格层和高合格层(~ 1019厘米-3)之间。小捐助者在2*1017厘米-3浓度下被合法化。在使用接触金属(黄金)之前,带有蚀刻痕迹的唱片被介质(硝化硅)防腐。通过邻近量子坑共振隧道(Esaki-Tsu机制),在一定电压区域产生负微分的电流被研究。随着时间的推移,电压的三角形脉冲被应用到样品中。在电压和电流的依赖下,电压(wah)的伏特特征在直接和反向扫描中恢复。当压力超过域名生成阈值时,会产生以下效果。1.电流滞后,直接和反向应力扫描。2. 一系列的电压特征(wah),几乎是放电的。3. 邻近地区照明的大光响应(led或白炽灯);照片可以达到50%的黑暗。有一种解释可以解释这些影响,无论如何,它们都与一个强大领域的三角形域有关,因为域内的供体完全耗尽。滞后被解释为运动域和静态域之间的转移。在产生静态域时,wah会出现一个电流饱和的区域。nav的最大值可以解释三角形域量子坑之间的隧道跃迁,伴随着光学背景的发射。大的光电反应也与蜻蜓域的大小联系在一起,这是一个漫长的捐献者荒地,在那里,自由宿主的浓度非常低。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Особенности туннельного тока в сверхрешетках с электрическими доменами / Алтухов И.В., Каган М.С., Папроцкий С.К., Хвальковский Н.А., Дижур С.Е., Кон И.А., Васильевский И.С., Виниченко А.Н., Баранов А.Н., Teissier R.
При комнатной температуре исследовались короткопериодные сверхрешетки (СР) двух типов: СР 4 нм GaAs / 2 нм AlAs, (100 периодов) и 4,5 нм InAs / 3,5 нм AlSb (85 периодов), выращенных с помощью молекулярно-лучевой эпитаксии. СР были расположены между сильно легированными верхним контактным слоем n+ -GaAs и, соответственно, n+ -InAs и сильно легированной (~ 1019 см-3) подложкой из тех же материалов. СР были легированы мелкими донорами в концентрации 2*1017 см-3. Перед нанесением контактного металла (золота) пластинка с вытравленными мезами покрывалась диэлектриком (нитрид кремния). Изучался туннельный ток в условиях образования электрических доменов, возникавших из-за наличия отрицательной дифференциальной проводимости в некоторой области напряжений при резонансном туннелировании электронов между соседними квантовыми ямами (механизм Esaki-Tsu). К образцам прикладывались треугольные импульсы напряжения с временем нарастания 0.5-10 μсек. Из зависимостей напряжения и тока от времени восстанавливались вольтамперные характеристики (ВАХ) при прямой и обратной развертке напряжения. При напряжениях выше порога образования доменов наблюдались следующие эффекты. 1. Гистерезис тока при прямой и обратной развертке напряжения. 2. Серия максимумов на вольтамперных характеристиках (ВАХ), почти эквидистантных по напряжению. 3. Большой фотоотклик на межзонное освещение (светодиод или лампа накаливания 2,5 Вт); фототок мог достигать 50% от темнового. Предложено объяснение этих эффектов, так или иначе связывающее их с треугольной формой домена сильного поля, обусловленной полным опустошением доноров внутри домена. Гистерезис интерпретируется как переход между режимами с движущимся и статическим доменом. При образовании статического домена на ВАХ появлялся участок с насыщением тока. Максимумы на ВАХ объясняются туннельными переходами между квантовыми ямами в треугольном домене, сопровождающимися испусканием оптических фононов. Большой фотоотклик также связывается с треугольной формой домена с протяженной областью полного опустошения доноров, где концентрация свободных носителей крайне мала.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:604180095
Book学术官方微信