Nippon Kagaku Kaishi最新文献

Degradation of Polymers in the Presence of Anhydrous Aluminum Chloride 无水氯化铝存在下聚合物的降解

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2011-01-01 DOI: 10.1246/NIKKASHI.1976.1171

Tadashi Yamaguchi, Taiji Kamiguchi, Toshimichi Fro, S. Ohkita, Tomio Goto

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ポリフェノール修飾β‐シクロデキストリン‐遷移金属錯体触媒を用いた過酸化水素による芳香族スルフィドの不斉酸化多酚修饰β -环糊精-使用过渡金属配合物催化剂的过氧化氢芳香族化合物的不对称氧化

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.399

英剛櫻庭, 大前川, 聡瀧澤, 入内島さちこ, 学美山田

{"title":"ポリフェノール修飾β‐シクロデキストリン‐遷移金属錯体触媒を用いた過酸化水素による芳香族スルフィドの不斉酸化","authors":"英剛櫻庭, 大前川, 聡瀧澤, 入内島さちこ, 学美山田","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.399","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.399","url":null,"abstract":"ポリフェノール(没食子酸(GA)，プロトカテク酸(PA，NH-PA)，2,3-ジヒドロキシ安息香酸(2,3-HBA))ならびにサリチル酸(SA)および安息香酸(BA)の6種を，それぞれβ-シクロデキストリン(β-CD)の第一級ヒドロキシ基側に一置換させたβ-CD修飾体を合成した．その遷移金属イオン錯体の不斉触媒効果をpH 1–7の領域で，芳香族スルフィド(フェニル，ナフチルおよびフェナントリル誘導体)の酸化反応で調べた．ポリフェノール修飾β-CD誘導体のフェニル環の3-，4-，5-位に位置する隣接ヒドロキシ基は，Mo(V)イオンの共存する中性領域(pH 6)でメチル1-ナフチルスルフィドを不斉触媒酸化し，対応するスルホキシドの(R)-体を20–55%の不斉収率で生成した．これに反して，修飾基のフェニル環の2-位にヒドロキシ基があると，(S)-スルホキシドが19–35%eeで得られた．ポリフェノールのβ-CDとの結合様式は不斉収率に影響を及ぼし，PAのエステル化修飾体(β-CD-PA)のMo(V)錯体はアミド化修飾体(β-CD-NH-PA，41%ee(R))より高い不斉収率(55%ee(R))をもたらした．このメチル1-ナフチルスルフィドの酸化で得られた光学純度は，基質として用いた芳香族スルフィドの中で最大値であった．やはり，フェノール性ヒドロキシ基を持たないβ-CD-BAの添加では不斉誘起は全く起こらなかった．β-CD-PAのMoとW(4d-，5d-ブロック)金属錯体では(R)-スルホキシドを36–55%eeで生成し，3d-ブロック金属イオンとの錯体では(S)-スルホキシドが10–45%eeで得られ，互いに逆の不斉挙動を示した．","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"84179769","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}

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Mesomorphic Properties of p-Benzoquinone Derivatives 对苯醌衍生物的介形性质

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.309

H. Matsutani, S. Sata, M. Sugiura

{"title":"Mesomorphic Properties of p-Benzoquinone Derivatives","authors":"H. Matsutani, S. Sata, M. Sugiura","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.309","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.309","url":null,"abstract":"ベンゼン誘導体1の報告以降，二次元円盤状の分子が示すディスコチック液晶に関する研究が盛んに行われている．Chandrasekharら，およびLillyaらの研究グループは，それぞれ独立に2,5-シクロヘキサジエン-1,4-ジオン(p-ベンゾキノン)誘導体2の不安定なカラムナー相について報告している．著者らは，p-ベンゾキノン誘導体が示す酸化-還元等の機能性をディスコチック液晶に取り入れることにより，新たな機能材料の創製が可能となると考えた．そこで，エステル誘導体2に対して，種々のp-ベンゾキノン誘導体4，5，7を合成し，これらの化合物が示す中間相について調べた．安息香酸エステル4は，芳香環とコアが同一平面になっていなかったためか，中間相は確認できなかった．エーテル5bのDSC測定を行ったところ，32 °Cと55 °Cに吸熱ピークが観測された．しかし，液晶相と思われる明確な組織は確認できなかった．一方，アミド誘導体7aを等方性液体から冷却すると樹枝状組織が観測された．この結果は7aがモノトロピー的なColh相をとることを示唆している．","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"82296063","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}

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スギ(Cryptomeria japonica D. Don)辺材およびその構成成分から調製した木酢液の分析杉树(Cryptomeria japonica D. Don)边材及其构成成分配制的木醋液的分析

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.385

洋一松下, 和寛菅本, 健一日高, 隆尚松井

{"title":"スギ(Cryptomeria japonica D. Don)辺材およびその構成成分から調製した木酢液の分析","authors":"洋一松下, 和寛菅本, 健一日高, 隆尚松井","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.385","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.385","url":null,"abstract":"??????(Cryptomeria japonic D. Don)??????????????????Klason???????????????α-????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????(TG)??????????????????(DTA)?????????????????????????????????????????????258 °C???Klason???????????????342 °C???α-??????????????????280 °C???????????????????????????153 °C???????????????????????????????????????????????????????????????????????????400 °C?????????????????????????????????????????????GC???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????3????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????250 °C · ??????6???????????????????????????????????????????????????????????????300 °C???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????250 °C????????????????????????????????????????????????300 °C???????????????????????????????????????????????????????????????","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"76109394","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}

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漆液の反復「くろめ」によるウルシオールの変化と低湿度環境における自然乾燥性発現の関係漆液的反复“黑”导致醛醇的变化和低湿度环境中自然干燥性表现的关系

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.377

喜助永瀬, 幸男神谷, 賢吾穂積, 哲雄宮腰

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Crystal Structure Control of Lithium Manganese Spinal Oxides and Their Application to Lithium Secondary Battery 锂锰脊髓氧化物晶体结构控制及其在锂二次电池中的应用

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.271

H. Ikuta, Y. Uchimoto, M. Wakihara

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The Effect of Metals Loaded on Activated Carbon on the Removal of NO_2 负载金属对活性炭去除NO_2的影响

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.421

T. Shirakashi, Takami Moteki, Tomohiro Abe, T. Tamura, S. Yoshihara

{"title":"The Effect of Metals Loaded on Activated Carbon on the Removal of NO_2","authors":"T. Shirakashi, Takami Moteki, Tomohiro Abe, T. Tamura, S. Yoshihara","doi":"10.1246/NIKKASHI.2002.421","DOIUrl":"https://doi.org/10.1246/NIKKASHI.2002.421","url":null,"abstract":"Ag，Pt，CuおよびCuOを担持させた活性炭を調製し，これによるNO2除去特性を調べた．活性炭はヤシガラ系のものを用い，金属の担持方法としては，金属イオンを含む溶液に活性炭を入れ，活性炭により直接金属にまで還元する方法および金属錯体として吸着させた後窒素中700 °Cで加熱，還元する方法を用いた．NO2は硝酸鉛の熱分解により発生させ，活性炭を充填したカラムに循環させた．Pt/ACおよびCu/ACを用いた場合，NO2は速やかに除去され，空気中と窒素中でのNO2の除去速度に大きな差は見られなかった．反応ガス中のHNO3，HNO2，NO，NH3はごくわずかであり，NO2はN2まで還元されることが示唆された．また，CuO/ACを用いた場合にもNO2の除去性はCu/ACとほぼ同一であり，Ag/ACによるNO2の除去性は小さかった．NO2除去後の金属の結晶状態をXRDで調べた結果，Ptは金属のピークのみを示した．Cu/ACを用いた場合にはCu2OおよびCuOに酸化された状態も観察され，CuO/ACを用いた場合にはCuおよびCu2Oに還元された状態も存在した．これらのことから，Pt/ACおよびCu/ACはNO2の還元除去に対する有効な触媒であり，Pt，CuあるいはCu2Oは活性炭によるNO2の還元触媒として作用している．","PeriodicalId":19311,"journal":{"name":"Nippon Kagaku Kaishi","volume":null,"pages":null},"PeriodicalIF":0.0,"publicationDate":"2002-03-10","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":null,"resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":"73717684","PeriodicalName":null,"FirstCategoryId":null,"ListUrlMain":null,"RegionNum":0,"RegionCategory":"","ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":"","EPubDate":null,"PubModel":null,"JCR":null,"JCRName":null,"Score":null,"Total":0}

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コーヒー殻による水中の銅(II)およびカドミウム(II)の捕集除去咖啡壳捕获水中的铜(II)和镉(II)

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.459

南澤麿優覽, 中嶋すぎ子, 友紀満江, 和江宮澤, 慶子上野, 愛羽鳥, 冴子宮島, 星野真希枝, 吉田章一郎, 信治高井

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分光光度法によるアルミニウム(III)と没食子酸との錯生成定数の決定通过分光光度法确定铝(III)和没食子酸的错生常数

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-03-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.329

栗原正日呼, 裕子濱邊, 美佳池田, 秀則新川, 大吉僓美子

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Charge Stabilization of Trimellitic Anhydride Microcapsule Toner 偏苯三酸酐微胶囊爽肤水的电荷稳定性

Nippon Kagaku Kaishi Pub Date : 2002-02-10 DOI: 10.1246/NIKKASHI.2002.169

Katsuya Teshima, M. Aoyagi, Hikosaka Shin-ichi

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