研究论文：异酰亚胺化对正性聚酰亚胺光刻胶光敏特性的影响

本文研究了异酰亚胺化对正性聚酰亚胺光刻胶光敏特性的影响。背景中，聚酰胺酸(PAA)在碱性水溶液中溶解速率过快，导致光刻胶体系难以构建精细图案。研究目的是通过异酰亚胺化预处理再酯化的方法，提高聚酰胺酸酯的酯化程度，从而改善光刻胶的光敏特性。实验结果表明，异酰亚胺化预处理显著提升了酯化效率，优化后的光刻胶在显影液浓度、光敏剂含量等参数下表现出优异的光刻能力，最小线宽可达3 μm。结论表明，该方法解决了p-PSPI分辨率低和酯化效率不足的问题，为半导体光刻胶国产化提供了新策略。