研究论文:异酰亚胺化对正性聚酰亚胺光刻胶光敏特性的影响
中国高分子
2025-07-11 17:51
文章摘要
本文研究了异酰亚胺化对正性聚酰亚胺光刻胶光敏特性的影响。背景中,聚酰胺酸(PAA)在碱性水溶液中溶解速率过快,导致光刻胶体系难以构建精细图案。研究目的是通过异酰亚胺化预处理再酯化的方法,提高聚酰胺酸酯的酯化程度,从而改善光刻胶的光敏特性。实验结果表明,异酰亚胺化预处理显著提升了酯化效率,优化后的光刻胶在显影液浓度、光敏剂含量等参数下表现出优异的光刻能力,最小线宽可达3 μm。结论表明,该方法解决了p-PSPI分辨率低和酯化效率不足的问题,为半导体光刻胶国产化提供了新策略。
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