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Extended Abstracts of the Third International Workshop on Junction Technology, 2002. IWJT. - 最新文献
Evaluation of BN-delta-doped multilayer reference materials for shallow depth profiling in SIMS
Pub Date : 2004-06-15 DOI: 10.1109/IWJT.2002.1225199 S. Yoshikawa, F. Toujou, Y. Homma, H. Takenaka, S. Hayashi, M. Inoue, K. Goto, R. ShimizuDetailed modeling of source/drain parasitics and their impact on MOSFETs scaling
Pub Date : 1900-01-01 DOI: 10.1109/IWJT.2002.1225186 Seong-Dong Kim, J. WooTCAD simulation in development and fabrication of deep-sub-/spl mu/m devices
Pub Date : 1900-01-01 DOI: 10.1109/IWJT.2002.1225210 A. Erlebach, C. Zechner, A. Al-Bayati
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