中科大吴思/广工大陈旭东/安理大王明皓 AFM：光响应氰基偶氮聚合物纳米压印和光图案化实现高识别度正交双模式加密

背景：随着信息安全需求提高，开发高容量、高安全性的多模态加密材料成为研究重点，光响应偶氮聚合物虽具优势，但多通道信息正交写入与独立读取及图案可识别性仍是挑战。研究目的：中国科学技术大学吴思教授团队设计了光响应氰基偶氮聚合物，通过改进开环易位聚合实现可控合成，并利用光致Tg变化和增强光致取向特性，结合纳米压印与光图案化技术，构建高识别度的正交双模式加密图案。结论：该聚合物可通过光控Tg变化实现纳米结构的压印、擦除和重写，并因氰基引入增强光致取向，形成高对比度偏振图案。在同一薄膜中，反射模式（表面纳米结构）与偏振模式（分子取向）可独立写入和读取，互不干扰，且图案可擦写重写，加密图案在清晰度、色彩饱和度和亮度上均优于非氰基对照材料，为高安全性信息加密提供了新平台。