失效分析看不清、伤样品？低损伤高分辨成像技术来了！

本文介绍了蔡司Gemini电子光学技术在半导体失效分析中的应用。背景方面，半导体失效分析面临高分辨成像困难、新材料结构适配性差、电子束辐照损伤等问题。研究目的是通过Gemini技术解决这些痛点，该技术具有低电压VC成像、不漏磁光学系统、高速背散射探测等创新功能，能实现3nm制程测试、100eV低损伤成像、12mm大视野观察等突破性性能。结论表明该技术可显著提升半导体失效分析效率，其专用软件解决方案还能提供自动化工作流程和AI辅助分析。