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2009 International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications - 最新文献
Reliability of planar and FinFET SONOS devices for NAND flash applications - Field enhancement vs. barrier engineering
Pub Date : 2009-04-27 DOI: 10.1109/VTSA.2009.5159336 T. Hsu, H. Lue, S. Lai, Y. King, K. Hsieh, Rich Liu, Chih-Yuan LuAn investigation about the limitation of strained-Si technology
Pub Date : 2009-04-27 DOI: 10.1109/VTSA.2009.5159277 M. Liao, L. Yeh, J. C. Lu, M. H. Yu, L. T. Wang, J. Wu, P. Jeng, T. Lee, S. JangLow capacitance approaches for 22nm generation Cu interconnect
Pub Date : 2009-04-27 DOI: 10.1109/VTSA.2009.5159288 T. Bao, H. Chen, C.J. Lee, H. Lu, S. Shue, C. Yu
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