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2003 8th International Symposium Plasma- and Process-Induced Damage. - 最新文献
Effects of gate notching profile defect on characteristic of cell NMOSFET in low-power SRAM device
Pub Date : 2003-04-24 DOI: 10.1109/PPID.2003.1200944 S. Seo, Sung-Jin Kim, Won-suk Yang, Jun-Yong Ju, Joo-Young Kim, S. Park, Seug-Gyu Kim, Ki-Joon KimA novel wireless on-wafer plasma sensor using light-emitting diodes
Pub Date : 2003-04-24 DOI: 10.1109/PPID.2003.1200950 N. Mise, T. Ono, T. UsuiNBTI in dual gate oxide PMOSFETs
Pub Date : 2003-04-24 DOI: 10.1109/PPID.2003.1200942 P. Chaparala, D. Brisbin, J. Shibley
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