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Optical and EUV Nanolithography XXXV - 最新文献
A lithographic and etching study on EUV contact hole patterning for stochastic process mitigation towards advanced device scaling
Pub Date : 2022-06-21 DOI: 10.1117/12.2614165 D. De Simone, P. Foubert, R. Fallica, Arnaud Dauendorffer, K. Nafus, N. Oikawa, Hironori Oka, Keita KatoEUV mask absorber induced best focus shifts
Pub Date : 2022-06-13 DOI: 10.1117/12.2614174 H. Mesilhy, P. Evanschitzky, G. Bottiglieri, E. van Setten, C. van Lare, Tim Brunner, M. A. van de Kerkhof, A. Erdmann
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