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Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X - 最新文献
EUVL: the natural evolution of optical microlithography
Pub Date : 2019-10-18 DOI: 10.1117/12.2515791 B. GehPrintability study of EUV double patterning for CMOS metal layers
Pub Date : 2019-08-09 DOI: 10.1117/12.2515603 D. D. Simone, G. VandenbergheAnalysis of line-and-space patterns of ZrO2 nanoparticle resist on the basis of EUV sensitization mechanism
Pub Date : 2019-06-28 DOI: 10.1117/12.2515133 T. Kozawa, Teppei Yamada, A. Nakajima, Y. Muroya, J. Santillan, T. Itani
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