Fmoc/Pic-SPPS | 复杂肽合成的全新解决方案

背景：传统Fmoc固相多肽合成使用TFA脱保护易导致肽链断裂、氧化和异常修饰等问题，尤其对含敏感残基的复杂肽合成存在挑战。研究目的：上海交通大学王平团队开发Fmoc/Pic-SPPS新技术，通过可见光催化实现温和高效的侧链脱保护，旨在解决传统方法的局限性。结论：该技术采用吡啶甲基类保护基，在pH 5.0水相缓冲液中经可见光照射20-30分钟即可完成脱保护，成功应用于含甲硫氨酸、精氨酸、二硫键及磷酸化修饰的复杂肽合成，显著提高产物纯度和收率，为多肽合成提供绿色新路径。