长，长，长晶了！标题仅3个词，重磅Nature！
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2025-10-11 11:00
文章摘要
本文研究背景聚焦于远程外延技术，该技术通过二维缓冲层实现薄膜与衬底的外延生长，但传统认知中有效作用距离局限在1纳米内。研究目的是探索在2-7纳米间距下实现远程外延的可能性，并验证其机制。通过实验发现，在超厚非晶碳缓冲层上，卤化物钙钛矿、岩盐化合物和ZnO薄膜仍能与衬底建立外延关系，高分辨电镜证实缓冲层无针孔缺陷。关键结论表明，衬底位错能产生长程静电相互作用，将远程外延作用距离扩展至7纳米，这为半导体材料加工提供了新工具，并通过缺陷工程为可控设计奠定基础。
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