AMI | 梅永丰，石建军、颜光辉综述：面向功能纳米粉末的原子层沉积反应腔设计与表面改性
Advanced Portfolio
2025-08-27 07:00
文章摘要
本文综述了原子层沉积（ALD）技术在功能纳米粉末表面改性中的应用。背景方面，纳米粉末因其大的比表面积呈现独特性质，在多个领域有广泛应用前景，但需要有效的表面改性技术。研究目的上，文章系统总结了粉末ALD技术的最新进展，包括反应腔设计（如流化床和空间ALD）及其在锂电材料、催化剂等领域的应用，旨在解决技术可行性、经济性和可放大生产等挑战。结论指出，未来研究方向包括高通量反应腔设计、ALD与原子层刻蚀协同技术以及在金属粉末中的创新应用。
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