香港城市大学Nat. Mater.: 等离激元光热打印赋能高性能全氧化物电子集成

香港城市大学研究团队开发了一种名为“等离激元光热打印”的新技术，该技术利用贵金属纳米结构的等离激元光热效应，在室温常压环境下实现了高密度、高性能全金属氧化物电子器件的打印制造。该技术通过飞秒激光照射银纳米线网络，产生局部高温热点，驱动金属氧化物前驱体材料转化为高质量功能薄膜。研究团队还深入研究了光热转换的物理机制，并开发了双激光打印系统，进一步提升了薄膜的结晶度和电学性能。实验结果显示，该技术能够打印多种核心电子材料，并构建高密度晶体管阵列和逻辑门电路，为未来集成电子、光电子芯片及各类传感器件的制造提供了新的解决方案。