一文读懂半导体薄膜沉积仿真及其实际应用

本文主要介绍了半导体薄膜沉积的三种主要工艺（PVD、CVD、ALD）及其仿真技术应用。背景方面，薄膜沉积是半导体制备中不可或缺的步骤，但实验成本高昂，因此需要通过仿真技术优化工艺参数。研究目的方面，文章详细阐述了如何通过分子动力学仿真等方法模拟PVD、CVD和ALD的工艺过程，以降低实验成本并提高薄膜质量。结论部分指出，通过仿真技术可以有效指导生产工艺，特别是在ALD工艺中，还可以实现宏观与微观的多尺度耦合仿真，进一步优化工艺参数。