The Synthesis of the High Resolution i Line Novolak Resist

IF 0.4 4区化学 Q4 POLYMER SCIENCE

Journal of Photopolymer Science and Technology Pub Date : 2022-12-16 DOI:10.2494/photopolymer.35.327

A. Sekiguchi, M. Hanabata, H. Minami, Y. Matsumoto, Yosuke Ohta, Fucheng Wang, Martin Z Ma, Zhiqiang Su

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Journal of Photopolymer Science and Technology 化学-高分子科学

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期刊介绍： Journal of Photopolymer Science and Technology is devoted to the publication of articles on the scientific progress and the technical development of photopolymers.