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17535期刊缩写：
J. Photopolym. Sci. Technol.
影响因子：
0.7
ISSN：
print: 0914-9244
研究领域：
化学-高分子科学
创刊年份：
1988年
h-index：
36
自引率：
25.00%
Gold OA文章占比：
56.69%
原创研究文献占比：
100.00%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文：
Journal of Photopolymer Science and Technology is devoted to the publication of articles on the scientific progress and the technical development of photopolymers.
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 1.5 | 0.181 | 0.507 | 学科 排名 百分位 大类：Materials Science 小类：Polymers and Plastics 117 / 161 27% 大类：Materials Science 小类：Materials Chemistry 234 / 317 26% 大类：Chemistry 小类：Organic Chemistry 177 / 211 16% |
发文信息
中科院SCI期刊分区
2025年3月20日发布
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 4区 化学 | 4区 高分子科学 POLYMER SCIENCE | 否 | 否 |
2023年12月发布
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 4区 化学 |
4区
高分子科学
POLYMER SCIENCE
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q4POLYMER SCIENCE |
历年影响因子
| 2015年 | 0.8570 |
|---|---|
| 2016年 | 0.7910 |
| 2017年 | 0.8680 |
| 2018年 | 0.9340 |
| 2019年 | 0.9090 |
| 2020年 | 0.5180 |
| 2021年 | 0.7380 |
| 2022年 | 0.8000 |
| 2023年 | 0.4000 |
| 2024年 | 0.7000 |
| 2025年 | 0.7000 |
历年发表
| 2012年 | 138 |
|---|---|
| 2013年 | 144 |
| 2014年 | 136 |
| 2015年 | 140 |
| 2016年 | 148 |
| 2017年 | 114 |
| 2018年 | 124 |
| 2019年 | 126 |
| 2020年 | 112 |
| 2021年 | 99 |
| 2022年 | 0 |
投稿信息
出版周期：
Semiannual
出版语言：
English
出版国家(地区)：
JAPAN
审稿时长：
4-8 weeks
出版商：
Tokai University
编辑部地址：
TECHNICAL ASSOC PHOTOPOLYMERS,JAPAN, CHIBA UNIV, FACULTY ENGINEERING, YAYOICHO, CHIBA, JAPAN, 263-8522
Journal of Photopolymer Science and Technology - 最新文献
Process and Sensitivity Optimisation of the Multi-Trigger Resist
Pub Date : 2022-12-16 DOI: 10.2494/photopolymer.35.75 C. Popescu, G. O'Callaghan, C. Storey, A. McClelland, J. Roth, E. Jackson, A.P.G. RobinsonEffect of Alternative Developer Solutions on EUVL Patterning
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