Attainment of Low Dit and Reliable High-Ge-Content Si1-xGex Gate Stacks via Low-Temperature Grown Ultra-Thin Epitaxial Si

Extended Abstracts of the 2021 International Conference on Solid State Devices and Materials Pub Date : 2021-09-09 DOI:10.7567/ssdm.2021.a-7-06

H. Wan, Yi-Ting Cheng, Chao-Kai Cheng, Y. Hong, Tien-Yu Chu, Chien-Ting Wu, J. Kwo, Minghwei Hong

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通过低温生长超薄外延硅获得低Dit和可靠的高锗含量Si1-xGex栅极堆栈

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