Process development of electron beam lithography in an academic environment

2004 IEEE Workshop on Microelectronics and Electron Devices Pub Date : 2004-09-27 DOI:10.1109/WMED.2004.1297370

G.S. Gatlin, C. Eskridge, J. Brinkerhoff, J. Fife, J. Jessing

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Abstract

This paper compares the processes of photolithography and electron beam lithography (EBL). In addition, we discuss the procedure used to implement EBL in a university laboratory, specifically Boise State University's (BSU) Idaho Microfabrication Laboratory (IML).

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本文比较了光刻和电子束光刻的工艺。此外，我们讨论了在大学实验室中实施EBL的程序，特别是博伊西州立大学(BSU)爱达荷微加工实验室(IML)。

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2004 IEEE Workshop on Microelectronics and Electron Devices

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