New Insights on Percolation Theory and the Origin of Oxide Breakdown Thickness and Process Deposition Dependence

2007 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings. 45th Annual Pub Date : 2007-04-01 DOI:10.1109/RELPHY.2007.369959

G. Ribes, M. Rafik, D. Barge, S. Kalpat, M. Denais, V. Huard, D. Roy

引用次数: 5

Abstract

In this paper we are using the MVHR model in order to better understand the percolation theory and the impact of gate oxide process conditions.

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渗透理论及氧化击穿厚度和工艺沉积依赖性的新认识

在本文中，我们使用MVHR模型，以便更好地理解渗透理论和栅氧化工艺条件的影响。

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