A new vector 2D photolithography simulation tool

1992 International Technical Digest on Electron Devices Meeting Pub Date : 1900-01-01 DOI:10.1109/IEDM.1992.307336

K. Lucas, A. Strojwas

引用次数: 5

Abstract

A new vector optical lithography simulator, METROPOLE, is presented. Rigorous simulations run quickly on a workstation for complex 2D regular and phase shifting masks, substrate bleaching, optical metrology and alignment problems. An analysis of a novel phase shifting techniques is undertaken to highlight the usefulness of the program.<>

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一种新的矢量二维光刻仿真工具

提出了一种新的矢量光刻模拟器METROPOLE。在复杂的2D规则和相移掩模，基板漂白，光学计量和校准问题的工作站上快速运行严格的模拟。对一种新的相移技术进行了分析，以突出该程序的实用性。

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1992 International Technical Digest on Electron Devices Meeting

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