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4331中文名称：
应用物理快报
期刊缩写：
Appl. Phys. Express
影响因子：
2.3
ISSN：
print: 1882-0778
on-line: 1882-0786
on-line: 1882-0786
研究领域：
物理-物理：应用
h-index：
79
自引率：
8.70%
Gold OA文章占比：
15.21%
原创研究文献占比：
99.42%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文：
Applied Physics Express (APEX) is a letters journal devoted solely to rapid dissemination of up-to-date and concise reports on new findings in applied physics. The motto of APEX is high scientific quality and prompt publication. APEX is a sister journal of the Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) and is published by IOP Publishing Ltd on behalf of the Japan Society of Applied Physics (JSAP).
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 4.8 | 0.487 | 0.817 | 学科 排名 百分位 大类：Engineering 小类：General Engineering 77 / 307 74% 大类：Physics and Astronomy 小类：General Physics and Astronomy 72 / 243 70% |
发文信息
中科院SCI期刊分区
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 4区 物理与天体物理 |
4区
物理：应用
PHYSICS, APPLIED
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q3PHYSICS, APPLIED |
历年影响因子
| 2015年 | 2.2650 |
|---|---|
| 2016年 | 2.6670 |
| 2017年 | 2.5550 |
| 2018年 | 2.7720 |
| 2019年 | 3.0860 |
| 2020年 | 2.8950 |
| 2021年 | 2.8190 |
| 2022年 | 2.3000 |
| 2023年 | 2.3000 |
历年发表
| 2012年 | 476 |
|---|---|
| 2013年 | 572 |
| 2014年 | 447 |
| 2015年 | 415 |
| 2016年 | 438 |
| 2017年 | 368 |
| 2018年 | 388 |
| 2019年 | 625 |
| 2020年 | 446 |
| 2021年 | 399 |
| 2022年 | 310 |
投稿信息
出版周期：
Monthly
出版语言：
English
出版国家(地区)：
JAPAN
接受率：
90%
审稿时长：
1.2 months
论文处理费：
￥1760
出版商：
Japan Society of Applied Physics
编辑部地址：
JAPAN SOC APPLIED PHYSICS, KUDAN-KITA BUILDING 5TH FLOOR, 1-12-3 KUDAN-KITA, CHIYODA-KU, TOKYO, JAPAN, 102-0073
Applied Physics Express - 最新文献
Sensing and frequency selecting with toroidal resonance in metasurface
Pub Date : 2024-09-15 DOI: 10.35848/1882-0786/ad756e Man Peng, Tianyu Xiang, Tao Lei and Hong XuA unified global model accompanied with a voltage and current sensor for low-pressure capacitively coupled RF discharge
Pub Date : 2024-09-15 DOI: 10.35848/1882-0786/ad7667 Inho Seong, Sijun Kim, Woobeen Lee, Youngseok Lee, Chulhee Cho, Wonnyoung Jeong, Minsu Choi, Byeongyeop Choi, Huichan Seo, Sangheon Song and Shinjae YouDegradation mechanism of degenerate n-GaN ohmic contact induced by ion beam etching damage
Pub Date : 2024-09-06 DOI: 10.35848/1882-0786/ad7349 Xinkun Zhang, Haoran Qie, Yu Zhou, Yaozong Zhong, Jianxun Liu, Quan Dai, Qian Li, Xiaoning Zhan, Xiaolu Guo, Xin Chen, Qian Sun, Hui Yang
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