IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
期刊缩写:
IEEE Trans. Semicond. Manuf.
影响因子:
2.3
ISSN:
print: 0894-6507
on-line: 1558-2345
研究领域:
工程技术-工程:电子与电气
h-index:
59
自引率:
11.10%
Gold OA文章占比:
4.67%
原创研究文献占比:
100.00%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
The IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing addresses the challenging problems of manufacturing complex microelectronic components, especially very large scale integrated circuits (VLSI). Manufacturing these products requires precision micropatterning, precise control of materials properties, ultraclean work environments, and complex interactions of chemical, physical, electrical and mechanical processes.
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
5.20.9671.237
学科
排名
百分位
大类:Engineering
小类:Industrial and Manufacturing Engineering
114 / 384
70%
大类:Physics and Astronomy
小类:Condensed Matter Physics
131 / 434
69%
大类:Materials Science
小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials
89 / 284
68%
大类:Engineering
小类:Electrical and Electronic Engineering
250 / 797
68%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
3区 工程技术
3区 物理:应用 PHYSICS, APPLIED
3区 物理:凝聚态物理 PHYSICS, CONDENSED MATTER
4区 工程:电子与电气 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
4区 工程:制造 ENGINEERING, MANUFACTURING
WOS期刊分区
学科分类
Q2ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
Q3ENGINEERING, MANUFACTURING
Q3PHYSICS, APPLIED
Q3PHYSICS, CONDENSED MATTER
历年影响因子
2015年1.0450
2016年1.1170
2017年1.3360
2018年1.1400
2019年1.9770
2020年2.8740
2021年2.7960
2022年2.7000
2023年2.3000
历年发表
2012年98
2013年100
2014年95
2015年109
2016年99
2017年120
2018年91
2019年107
2020年106
2021年100
2022年101
投稿信息
出版周期:
Quarterly
出版语言:
English
出版国家(地区):
UNITED STATES
接受率:
100%
审稿时长:
3.3 months
出版商:
Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
编辑部地址:
IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141

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