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10th Annual IEEE/SEMI. Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop. ASMC 99 Proceedings (Cat. No.99CH36295) - 最新文献
Analysis and reduction of defects induced by in-line wafer probing
Pub Date : 1999-09-08 DOI: 10.1109/ASMC.1999.798255 M. Polavarapu, J. Peters, S. WrightWSi/sub x//poly-Si gate stack etching for advanced dRAM applications
Pub Date : 1999-09-08 DOI: 10.1109/ASMC.1999.798235 F. Leverd, L. Loisil, T. Lill, J. Trevor, P. Van Holt, L. Van Autryve, T. Varga, J. ChinnHaystack syndrome avoidance on massive correlation for probe vs. E-test data through the concurrent use of tree base models and trellis graphics. Application on sub-micron mix-signal product for the determination of the best process conditions for yield maximisation
Pub Date : 1999-09-08 DOI: 10.1109/ASMC.1999.798185 C. Ortega, J. Ignacio Alonso, E. Sobrino, J. Bonal
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