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Advances in Patterning Materials and Processes XXXV - 最新文献
Computational enablement for designs with sub-20nm metal tip to tip using cut shapes from grapho-epitaxy directed self-assembly
Pub Date : 2018-09-06 DOI: 10.1117/12.2297344 B. Meliorisz, K. Lai, U. Welling, H. Stock, S. Marokkey, T. Muelders, Jing Sha, Chi-Chun Liu, C. Chi, Jing Guo, C. Osborn, J. Morillo, W. Demmerle, D. Dunn
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