Journal of Vacuum Science & Technology A

SCI期刊
Journal of Vacuum Science & Technology A
中文名称:
真空科学与技术学报
期刊缩写:
J VAC SCI TECHNOL A
影响因子:
2.4
ISSN:
print: 0734-2101
研究领域:
工程技术-材料科学:膜
h-index:
100
自引率:
10.30%
Gold OA文章占比:
27.03%
原创研究文献占比:
93.31%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文:
Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
5.10.5690.957
学科
排名
百分位
大类:Physics and Astronomy
小类:Condensed Matter Physics
135 / 434
69%
大类:Physics and Astronomy
小类:Surfaces and Interfaces
19 / 57
67%
大类:Materials Science
小类:Surfaces, Coatings and Films
45 / 132
66%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
3区 材料科学
3区 材料科学:膜 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
3区 物理:应用 PHYSICS, APPLIED
WOS期刊分区
学科分类
Q3MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
Q3PHYSICS, APPLIED
历年影响因子
2015年1.7240
2016年1.3740
2017年1.7610
2018年1.8330
2019年2.1660
2020年2.4270
2021年3.2340
2022年2.9000
2023年2.4000
历年发表
2012年248
2013年223
2014年223
2015年279
2016年247
2017年222
2018年240
2019年220
2020年305
2021年284
2022年247
投稿信息
出版周期:
Bimonthly
出版语言:
English
出版国家(地区):
UNITED STATES
接受率:
66%
审稿时长:
2.1 months
论文处理费:
¥500
出版商:
AVS Science and Technology Society
编辑部地址:
A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502

Journal of Vacuum Science & Technology A - 最新文献

ToF-SIMS analysis of ultrathin films and their fragmentation patterns.

Pub Date : 2024-03-01 DOI: 10.1116/6.0003249 Shin Muramoto, Daniel J Graham, David G Castner

Plasma nitridation for atomic layer etching of Ni

Pub Date : 2024-01-31 DOI: 10.1116/6.0003263 Taylor G. Smith, Ali M. Ali, Jean-François de Marneffe, Jane P. Chang
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