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1372中文名称：
真空科学与技术学报
期刊缩写：
J VAC SCI TECHNOL A
影响因子：
2.4
ISSN：
print: 0734-2101
研究领域：
工程技术-材料科学：膜
h-index：
100
自引率：
10.30%
Gold OA文章占比：
27.03%
原创研究文献占比：
93.31%
SCI收录类型：
Science Citation Index Expanded (SCIE) || Scopus (CiteScore)
期刊介绍英文：
Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.
CiteScore：
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 |
|---|---|---|---|
| 5.1 | 0.569 | 0.957 | 学科 排名 百分位 大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics 135 / 434 69% 大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces and Interfaces 19 / 57 67% 大类：Materials Science 小类：Surfaces, Coatings and Films 45 / 132 66% |
发文信息
中科院SCI期刊分区
| 大类 | 小类 | TOP期刊 | 综述期刊 |
|---|---|---|---|
| 3区 材料科学 |
3区
材料科学：膜
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS
3区
物理：应用
PHYSICS, APPLIED
|
否 | 否 |
WOS期刊分区
| 学科分类 |
|---|
Q3MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS Q3PHYSICS, APPLIED |
历年影响因子
| 2015年 | 1.7240 |
|---|---|
| 2016年 | 1.3740 |
| 2017年 | 1.7610 |
| 2018年 | 1.8330 |
| 2019年 | 2.1660 |
| 2020年 | 2.4270 |
| 2021年 | 3.2340 |
| 2022年 | 2.9000 |
| 2023年 | 2.4000 |
历年发表
| 2012年 | 248 |
|---|---|
| 2013年 | 223 |
| 2014年 | 223 |
| 2015年 | 279 |
| 2016年 | 247 |
| 2017年 | 222 |
| 2018年 | 240 |
| 2019年 | 220 |
| 2020年 | 305 |
| 2021年 | 284 |
| 2022年 | 247 |
投稿信息
出版周期：
Bimonthly
出版语言：
English
出版国家(地区)：
UNITED STATES
接受率：
66%
审稿时长：
2.1 months
论文处理费：
￥500
出版商：
AVS Science and Technology Society
编辑部地址：
A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502
Journal of Vacuum Science & Technology A - 最新文献
ToF-SIMS analysis of ultrathin films and their fragmentation patterns.
Pub Date : 2024-03-01 DOI: 10.1116/6.0003249 Shin Muramoto, Daniel J Graham, David G CastnerSpinel LiGa5O8 prospects as ultra-wideband-gap semiconductor: Band structure, optical properties, and doping
Pub Date : 2024-02-13 DOI: 10.1116/6.0003117 Walter R. L. LambrechtPlasma nitridation for atomic layer etching of Ni
Pub Date : 2024-01-31 DOI: 10.1116/6.0003263 Taylor G. Smith, Ali M. Ali, Jean-François de Marneffe, Jane P. Chang
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本页显示期刊或杂志信息，仅供参考学习，不是任何期刊杂志官网，不涉及出版事务，特此申明。如需出版一切事务需要用户自己向出版商联系核实。若本页展示内容有任何问题，请联系我们，邮箱：info@booksci.cn，我们会认真核实处理。
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