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陈虹宇课题组 | 活性表面刻蚀：一种在金纳米片上钻孔的新方法

研之成理 2024-07-24 14:07
文章摘要
本文介绍了西湖大学陈虹宇课题组与中科大王红课题组合作开发的一种新型纳米刻蚀技术，该技术能够在金纳米片的平整表面上实现钻孔式的刻蚀，突破了传统刻蚀方法的局限。通过使用特定的配体和非平衡态刻蚀方法，研究团队成功地在金纳米片上实现了选择性的刻蚀，形成了具有边缘锯齿和孔洞结构的纳米片。这一技术不仅展示了在纳米尺度上对材料形貌的精细控制，还为未来的纳米技术应用开辟了新的可能性。
陈虹宇课题组 | 活性表面刻蚀：一种在金纳米片上钻孔的新方法
查看文献： Boring holes in Au nanoplates by active surface etching
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