研究前沿：光与声-氮化硅芯片 | Nature Photonics

背景：将强受激布里渊散射效应集成到成熟、低损耗的光子集成平台（如氮化硅）中，一直面临难以同时实现强相互作用、低损耗和技术可扩展性的挑战。研究目的：荷兰特文特大学的研究团队旨在通过异质集成方法，将二氧化碲薄膜沉积到标准氮化硅波导上，以引入并显著增强基于表面声波的布里渊散射相互作用，从而拓展集成光子学的功能边界。结论：该研究成功实现了三项核心突破：在氮化硅平台上首次演示了净增益5分贝的布里渊放大器、线宽仅7赫兹的紧凑型模间布里渊激光器，以及线宽2.2兆赫兹的宽可调谐微波光子陷波滤波器。这些成果得益于二氧化碲层引入的新型声表面波模式所带来的超强光声相互作用，为直接在氮化硅芯片上集成新型射频和光学技术开辟了道路。