北京大学《Nature》子刊：我国芯片领域获得新突破！可显著减少芯片光刻缺陷
材料科学与工程
2025-11-28 11:09
文章摘要
背景：光刻胶在显影液中的微观行为长期是工业界的"黑匣子"，制约着7纳米及以下先进制程芯片的良率提升。研究目的：北京大学研究团队通过引入冷冻电子断层扫描技术，旨在原位解析光刻胶分子在液相环境中的三维结构与分布行为。结论：研究发现光刻胶聚合物主要吸附在气液界面并易形成纳米级团聚颗粒，这一发现指导开发出能显著减少光刻缺陷的产业化方案，突破了传统工艺优化依赖试错的瓶颈。
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