Nature Communications重磅发布：新型光刻技术突破有机电子器件集成限制！
纳米人
2025-10-24 08:32
文章摘要
本文背景为有机电子器件在可穿戴和可植入设备领域面临高密度集成挑战。研究目的是开发一种双重保护层光刻策略（DPL-photolithography），通过抗溶剂和抗水保护层实现有机材料的无损图案化。结论表明该技术成功制造出密度达64,288个晶体管/平方厘米的高性能OTFTs，迁移率高达2.21 cm²/Vs，并展现出卓越的机械稳定性（经10万次折叠循环性能不变），为有机电子设备的商业化提供了可行路径。
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