7nm,远程外延,登上Nature!

纳米人 2025-10-04 21:52
文章摘要
本文研究背景聚焦于远程外延技术,该技术通过远程相互作用实现薄膜与衬底的外延关系,突破传统晶格匹配限制。研究目的旨在解决远程相互作用距离受限(传统<1nm)和机制争议问题,通过实验验证长距离远程外延的可行性。研究结论表明,在2-7纳米距离下可实现远程外延,并首次揭示衬底位错通过静电作用介导长程相互作用,实验证实外延岛与位错存在一一对应关系,为半导体材料加工提供了新工具。
7nm,远程外延,登上Nature!
查看文献: Long-distance remote epitaxy.
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