AOM | 昆明理工大学杨正文团队：缺陷工程双模式光致变色用于可逆发光调制及多功能光学应用

本研究针对现有光致变色材料在双模式刺激响应方面的不足，开发了缺陷工程型LiNbO3:Bi/Sm荧光粉。研究通过高温固相法合成材料，实现了紫外线/X射线双诱导的光致变色特性，并发现其具有可逆的白色-红色转变能力。实验证实该材料的Sm3+发光调制率最高达67%，且通过氧空位色心机制实现了98%的恢复率。研究结论表明该材料不仅能实现实时/累积辐射传感，还在PDMS柔性基底中展示了X射线成像与光学存储的应用潜力，为辐射检测和防伪技术提供了创新解决方案。