北交大滕枫/唐爱伟团队Light | 图案化QLED显示的无损直接光刻技术

本文介绍了北京交通大学滕枫/唐爱伟团队在量子点显示技术领域的创新研究。研究背景指出，胶体半导体量子点因其优异的光电性能成为显示材料的研究热点，但传统光刻技术会损害量子点性能。研究团队设计了一种基于刚性桥联结构的光交联剂CPTA，成功实现了量子点材料的无损图案化。该技术制备的QLED器件分辨率达6,350 PPI，最小线宽1微米，且保持了21%的高外量子效率。结论表明，这项技术突破了传统光刻的局限，为高分辨率QLED显示提供了创新解决方案，并展现出在柔性显示中的应用潜力。