中国科大蔡洪冰，南洋理工高炜博，Nature Electronics！

本文介绍了新加坡南洋理工大学高炜博教授团队与中国科学技术大学蔡洪冰研究员团队联合开发的一种金属印章直接压印方法，用于圆片级二维材料的无残留图案化。研究背景指出二维半导体因其优异的电学和光学特性成为晶体管持续缩放的有前景材料，但传统图案化工艺会引入污染物，影响器件性能。研究目的是开发一种避免使用光刻胶和化学试剂的物理图案化方法，以实现晶圆级、快速和高质量的二维材料图案化。研究结果表明，该方法制备的二维阵列表面的原子洁净和高质量，制作的晶体管表现出更好的电学性能和均匀性，晶圆级逻辑电路的良率达到97.6%。结论展望指出该方法为二维材料的大规模图案化提供了高通量技术，有助于推动二维材料工业化发展。