中国科大蔡洪冰/南洋理工高炜博联手再发大子刊!

本文介绍了一种基于金属印章直接压印的二维材料无残留图案化方法，灵感来源于活字印刷技术和现代纳米压印技术。该方法避免了传统光刻和化学蚀刻过程中引入的污染物，实现了二维材料的晶圆级、快速和高质量图案化。研究人员展示了该方法在制备晶圆级逻辑电路中的应用，在500个功能单元中获得了97.6%的良率。背景方面，二维半导体因其优异的电学和光学特性被视为下一代半导体材料，但其大规模集成电路制造面临均匀性和良率的挑战。研究目的是开发一种无残留的图案化技术，以解决传统方法带来的污染问题。结论表明，该方法不仅保留了二维材料的本征特性，还显著提高了器件的性能和均匀性，为二维材料的工业化应用提供了新思路。