本征铁磁半金属VI₃单层的电子关联多拓扑相
计算材料学
2025-02-12 08:00
文章摘要
本文研究了本征铁磁半金属VI₃单层的电子关联多拓扑相。通过使用有效k·p和紧束缚模型,作者预测了不同Ueff下VI₃单层的二阶拓扑状态演化。研究发现,Ueff的增加会导致能带反转和晶体对称性调整,进而形成不同的拓扑态。具体而言,当Ueff ≥ 0.96 eV时,VI₃单层呈现二阶拓扑态。此外,研究还发现Ueff能有效诱导不同阶拓扑相,并导致VI₃单层从平面内磁各向异性向垂直磁各向异性转变。这些发现使VI₃单层成为探索拓扑器件的有力候选者。
本站注明稿件来源为其他媒体的文/图等稿件均为转载稿,本站转载出于非商业性的教育和科研之目的,并不意味着赞同其观点或证实其内容的真实性。如转载稿涉及版权等问题,请作者速来电或来函联系。