高压高温制备高质量六方氮化硼单晶 | 进展

本文介绍了高质量六方氮化硼（hBN）单晶的制备及其在二维量子材料中的应用。hBN因其优异的物理化学特性，如原子级平坦表面、宽带隙和高绝缘性，被广泛用作衬底和封装材料。目前，高质量hBN单晶主要由日本国立材料研究所的团队通过Ba-BN溶剂体系在高压高温条件下制备。然而，Ba基溶剂存在吸水性强和成本高的问题。中国科学院物理研究所和东南大学的联合研究团队开发了一种新型低成本的Sr基溶剂，成功在4.5GPa和1500℃条件下制备出高质量hBN单晶，填补了国内在此领域的空白，并为大规模制备和应用奠定了基础。