无功大功率脉冲磁控溅射(R-HiPIMS)的过渡模式控制

Journal of The Vacuum Society of Japan Pub Date : 2017-01-01 DOI:10.3131/JVSJ2.60.346

Tetsuhide Shimizu, M. Villamayor, J. Kéraudy, D. Lundin, U. Helmersson

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摘要

346平成28年11月30日第57届真空相关的联合演讲会上发表1首都东京大学研究生院学科智能机械系统设计系统研究区域(〒19165东京都日野市旭が丘66)2リンシェーピン大学测量、物理学研究科(se 58183林シェーピン,瑞典)3巴黎第11大学气体、等离子物理研究所(91405奥尔セー,法国)fig . 1Cathode voltage and current waveforms measured during HiPIMS of TiAl alloy in Ar/N2 gas mixtures atconstant mean power of 8kw, afrequency of 1khz, apulse length of 50ms，and a工作pressure of 0.5 Pa。

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Transition Mode Control in Reactive High-Power Impulse Magnetron Sputtering (R-HiPIMS)

346 平成28年11月30日第57回真空に関する連合講演会で発表 1 首都大学東京大学院システムデザイン研究科知能機械システム学域(〒1910065 東京都日野市旭が丘 66) 2 リンシェーピン大学計測・物理学研究科(SE 58183 リンシェーピン,スウェーデン) 3 パリ第11大学ガス・プラズマ物理研究所(91405 オルセー,フランス) Fig. 1 Cathode voltage and current waveforms measured during HiPIMS of TiAl alloy in Ar/N2 gas mixtures at a constant mean power of 8 kW, a frequency of 1 kHz, a pulse length of 50 ms, and a working pressure of 0.5 Pa.

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