设计和制造用于合成纳米结构多孔氧化铝的电压和电流源

L. Valdez, V. Toranzos, G. Ortiz
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摘要

在这项工作中,我们介绍了用于合成纳米结构多孔 Al2O3 (APN) 薄膜的电压和电流源的设计、校准和使用。该源的操作是通过 ARDUINO NANO 开发板 [1] 上的 ATMEGA 328 微控制器,以 8 位精度的脉宽调制 (PWM) 实现的,电压范围为 0 - 40V,电流范围为 1 - 5.6 mA,测量不确定度为 5%。图中显示了仪器的校准曲线,其响应的线性度非常明显,在工作范围内,信号源的指令值与台式万用表的直接测量值非常一致。我们使用该光源在不同条件下合成了 4 个 APN 样品,厚度约为 1300 纳米。我们使用 Ocean Optics USB-4000 光谱仪获得了反射光谱,并使用传递矩阵模型进行了分析,该模型考虑了孔隙率、厚度、粗糙度以及 Fe2O3 和 CuO l 的痕量浓度 [2]。我们发现,阳极氧化时间和电流无法单独解释 APN 薄膜厚度。孔隙率在 APN 薄膜形成过程中的作用值得进一步关注。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Diseño y construcción de una fuente de tensión y corriente para sintetizar alúmina porosa nanoestructurada
En este trabajo presentamos el diseño, calibración y uso de una fuente de tensión y corriente para la síntesis de películas de Al2O3 porosa nanoestructurada (APN). El funcionamiento de la fuente se logra mediante en un microcontrolador ATMEGA 328 en una placa de desarrollo ARDUINO NANO [1] por modulación de ancho de pulso (PWM) con precisión de 8 bits, en un rango de tensiones de 0 - 40V y corrientes de 1 - 5 .6 mA, con incertezas en las mediciones de 5%. Se muestran las curvas de calibraciones del instrumento, donde evidenciamos la linealidad de la respuesta y se logró un buen acuerdo de los valores comandados en la fuente con las medidas directas de multímetro de banco para los rangos de trabajo. Utilizamos esta fuente para la síntesis de 4 muestras de APN bajo diferentes condiciones buscando un espesor del orden de los 1300 nm. Se obtuvieron los espectros de reflectancia mediante un espectrómetro Ocean Optics USB-4000, y se analizaron empleando un modelo de matriz de transferencia que tiene en cuenta la porosidad, espesor, rugosidad, y las concentraciones por vestigios de Fe2O3 y CuO l [2]. Encontramos que los espesores de las películas de APN no pueden explicarse solamente con los tiempos y corrientes de anodizado. El rol de la porosidad en la formación de las películas de APN sugiere ser un tema de mayor atención.
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