排除了样品的分析高度位置的不确定性，采用W-Si标准物质的XPS光谱峰值相对强度比的测量精度

Journal of Surface Analysis Pub Date : 2023-08-07 DOI:10.1384/jsa.30.28

Akira Kurokawa, Lulu Zhang

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摘要

为了用XPS进行定量分析，采用测定纯元素样品并根据信号强度的相对比得到相对灵敏度系数的方法，需要相同的测定条件。统一样品表面的高度也是其中之一。采用由钨和硅纯物质构成，样品表面高度相同的钨钨阵列，在排除样品表面高度不同对XPS强度产生影响的条件下，对峰值强度比的精度进行了研究。在实验室温度日差为9℃的中间再现条件下，对各纯物质的光谱峰值进行了为期5天的反复测量，在扩展不确定度方面，强度比精度达到了0.1%。XPS定量分析的精度到这个值还有改善的余地。

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試料の分析高さ位置の不確定性を除外したW-Si標準物質を用いたXPSスペクトルピークの相対強度比の測定精度

XPSで定量分析するために純元素試料を測定し信号強度の相対比から相対感度係数を得る方法では，測定条件を同一にする必要がある．試料面の高さをそろえることもその一つである．タングステンとシリコンの純物質で構成され，それらの試料面の高さが同じと見なせるタングステンドットアレイを用いて，試料面の高さの違いがXPS強度に与える影響を除外した条件でピーク強度比の精度を検討した．各純物質のスペクトルピークについて，実験室温度の日間差が9 ℃である中間再現条件下で5日間の繰返し測定を行ったところ，強度比の精度は拡張不確かさで0.1％を達成した．XPS定量分析の精度はこの値程度までは改善できる余地がある．

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