基于频谱集中程度的重参数化在光场去噪中的应用

从频谱支集对称程度及夹角两个结构特点出发，分析频谱支集结构变化对于去噪效果的影响，提出光场频谱支集集中程度的概念，并设计相应的度量函数。通过极小化集中程度度量函数，计算合适的光场双平面间距，按照此间距在去噪前对光场数据进行重参数化可以提高滤波去噪效果。HCI模拟光场数据和斯坦福实测光场数据实验结果表明，引入重参数化的光场滤波去噪方法能够优化去噪结果。从视觉上看，在滤除更多噪点的同时保留场景更多的结构和纹理信息；从定量评价上看，峰值信噪比和结构相似度指标也有所提高。