В.С. Ковшов, Антон Викторович Никонов, К.О. Болтарь
{"title":"基于crt的光敏模光谱特征边界温度关系研究","authors":"В.С. Ковшов, Антон Викторович Никонов, К.О. Болтарь","doi":"10.34077/rcsp2021-141","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Повышение требований к тактико-техническим характеристикам оптико-электронных систем ИКдиапазона, наблюдаемое в последнее десятилетие, является катализатором для непрерывного\nсовершенствования и оптимизации технологии изготовления современных фотоприемных устройств.\nОсобые требования предъявляются в первую очередь к полупроводниковым материалам и\nсоединениям на их основе, используемым для изготовления фоточувствительных элементов.\nФотомодули на основе гетероэпитаксиальных структур тройных соединений кадмий-ртуть-теллур\n(КРТ) стабильно занимают широкую область рынка изделий фотоэлектроники [1, 2]. Вместе с тем,\nперед разработчиками стоит вопрос совершенствования технологии изготовления таких фотомодулей.","PeriodicalId":356596,"journal":{"name":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","volume":"27 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2021-09-27","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":"{\"title\":\"Исследование температурной зависимости границ спектральной характеристики\\nчувствительности фотомодулей на основе КРТ\",\"authors\":\"В.С. Ковшов, Антон Викторович Никонов, К.О. Болтарь\",\"doi\":\"10.34077/rcsp2021-141\",\"DOIUrl\":null,\"url\":null,\"abstract\":\"Повышение требований к тактико-техническим характеристикам оптико-электронных систем ИКдиапазона, наблюдаемое в последнее десятилетие, является катализатором для непрерывного\\nсовершенствования и оптимизации технологии изготовления современных фотоприемных устройств.\\nОсобые требования предъявляются в первую очередь к полупроводниковым материалам и\\nсоединениям на их основе, используемым для изготовления фоточувствительных элементов.\\nФотомодули на основе гетероэпитаксиальных структур тройных соединений кадмий-ртуть-теллур\\n(КРТ) стабильно занимают широкую область рынка изделий фотоэлектроники [1, 2]. Вместе с тем,\\nперед разработчиками стоит вопрос совершенствования технологии изготовления таких фотомодулей.\",\"PeriodicalId\":356596,\"journal\":{\"name\":\"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ\",\"volume\":\"27 1\",\"pages\":\"0\"},\"PeriodicalIF\":0.0000,\"publicationDate\":\"2021-09-27\",\"publicationTypes\":\"Journal Article\",\"fieldsOfStudy\":null,\"isOpenAccess\":false,\"openAccessPdf\":\"\",\"citationCount\":\"0\",\"resultStr\":null,\"platform\":\"Semanticscholar\",\"paperid\":null,\"PeriodicalName\":\"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ\",\"FirstCategoryId\":\"1085\",\"ListUrlMain\":\"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-141\",\"RegionNum\":0,\"RegionCategory\":null,\"ArticlePicture\":[],\"TitleCN\":null,\"AbstractTextCN\":null,\"PMCID\":null,\"EPubDate\":\"\",\"PubModel\":\"\",\"JCR\":\"\",\"JCRName\":\"\",\"Score\":null,\"Total\":0}","platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"ФОТОНИКА-2021 : ТЕЗИСЫ ДОКЛАДОВ РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ И ШКОЛЫ МОЛОДЫХ УЧЕНЫХ ПО АКТУАЛЬНЫМ ПРОБЛЕМАМ ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ФОТОЭЛЕКТРОНИКИ","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/rcsp2021-141","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
Исследование температурной зависимости границ спектральной характеристики
чувствительности фотомодулей на основе КРТ
Повышение требований к тактико-техническим характеристикам оптико-электронных систем ИКдиапазона, наблюдаемое в последнее десятилетие, является катализатором для непрерывного
совершенствования и оптимизации технологии изготовления современных фотоприемных устройств.
Особые требования предъявляются в первую очередь к полупроводниковым материалам и
соединениям на их основе, используемым для изготовления фоточувствительных элементов.
Фотомодули на основе гетероэпитаксиальных структур тройных соединений кадмий-ртуть-теллур
(КРТ) стабильно занимают широкую область рынка изделий фотоэлектроники [1, 2]. Вместе с тем,
перед разработчиками стоит вопрос совершенствования технологии изготовления таких фотомодулей.