{"title":"Управление электронной локализацией за счет деформационных\nполей в группах Ge/Si квантовых точек / Зиновьева А.Ф., Зиновьев В.А., Ненашев А.В., Кулик Л.В., Двуреченский А.В.","authors":"","doi":"10.34077/semicond2019-290","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Новые тенденции в электронике требуют создания полупроводниковых наноструктур с\nконтролируемыми оптическими и спиновыми свойствами. Одной из перспективных систем для\nманипулирования электронной структурой является система с Ge/Si квантовыми точками (КТ),\nсоздаваемыми за счет самоорганизации в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Здесь электроны\nлокализуются за счет деформаций в потенциальных ямах в Si вблизи КТ. Меняя пространственную\nконфигурацию КT, их размер, форму, взаимное\nрасположение, можно контролировать\nраспределение деформаций, и соответственно\nэнергетический спектр электронов.\nВ данной работе были разработаны и\nсозданы специальные структуры с Ge/Si КТ,\nпозволяющие реализовать одновременную\nлокализацию электронов в разных Δ долинах в\nупорядоченной группе КТ [1]. Электроны имеют\nразную пространственную локализацию (один\nлокализован на вершине КТ, а другой на одном из\nребер основания КТ), характеризуются разными gфакторами и могут рассматриваться как пара\nкубитов, связанных постоянным обменным\nвзаимодействием. Структуры представляют собой\nкомбинацию (~200 нм) больших дискообразных\nКТ (нанодисков) и групп КТ меньшего размера\n(~30 нм), выращенных на расстоянии 35 нм от слоя нанодисков. Для увеличения деформаций и,\nсоответственно, энергии связи электронов на КТ, были выращены 4-слойные стеки упорядоченных\nгрупп КТ с различным расстоянием между слоями КТ в стеке d. Для локализации электронов в\nбоковых Δx,y долинах было использовано расстояние d=3 нм. Для одновременной локализации\nэлектронов в разных Δ долинах была создана структура с варьируемым расстояние d в стеке: между\n2-м и 3-м слоем КТ d=5 нм, остальные прослойки имели толщину d=3 нм. Локализация электронов\nбыла исследована методом ЭПР. Интерпретация результатов ЭПР была проведена на основе анализа\nзначений g-факторов и их ориентационных зависимостей и сопоставления с результатами\nвычислений энергетического спектра и волновых функций электронов. Расчеты проводились с\nучетом элементного состава КТ и реальной геометрии нанообъектов. Получено, что деформационное\nполе нанодиска играет ключевую роль в реализации одновременной локализации электронов в\nразных Δ долинах, позволяя регулировать положение энергетических уровней электронов.\nПолученные результаты могут лечь в основу создания базовых элементов для квантовых вычислений\nна основе структур с Ge/Si КТ.","PeriodicalId":213356,"journal":{"name":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","volume":"275 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-09-05","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/semicond2019-290","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
Управление электронной локализацией за счет деформационных
полей в группах Ge/Si квантовых точек / Зиновьева А.Ф., Зиновьев В.А., Ненашев А.В., Кулик Л.В., Двуреченский А.В.
Новые тенденции в электронике требуют создания полупроводниковых наноструктур с
контролируемыми оптическими и спиновыми свойствами. Одной из перспективных систем для
манипулирования электронной структурой является система с Ge/Si квантовыми точками (КТ),
создаваемыми за счет самоорганизации в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Здесь электроны
локализуются за счет деформаций в потенциальных ямах в Si вблизи КТ. Меняя пространственную
конфигурацию КT, их размер, форму, взаимное
расположение, можно контролировать
распределение деформаций, и соответственно
энергетический спектр электронов.
В данной работе были разработаны и
созданы специальные структуры с Ge/Si КТ,
позволяющие реализовать одновременную
локализацию электронов в разных Δ долинах в
упорядоченной группе КТ [1]. Электроны имеют
разную пространственную локализацию (один
локализован на вершине КТ, а другой на одном из
ребер основания КТ), характеризуются разными gфакторами и могут рассматриваться как пара
кубитов, связанных постоянным обменным
взаимодействием. Структуры представляют собой
комбинацию (~200 нм) больших дискообразных
КТ (нанодисков) и групп КТ меньшего размера
(~30 нм), выращенных на расстоянии 35 нм от слоя нанодисков. Для увеличения деформаций и,
соответственно, энергии связи электронов на КТ, были выращены 4-слойные стеки упорядоченных
групп КТ с различным расстоянием между слоями КТ в стеке d. Для локализации электронов в
боковых Δx,y долинах было использовано расстояние d=3 нм. Для одновременной локализации
электронов в разных Δ долинах была создана структура с варьируемым расстояние d в стеке: между
2-м и 3-м слоем КТ d=5 нм, остальные прослойки имели толщину d=3 нм. Локализация электронов
была исследована методом ЭПР. Интерпретация результатов ЭПР была проведена на основе анализа
значений g-факторов и их ориентационных зависимостей и сопоставления с результатами
вычислений энергетического спектра и волновых функций электронов. Расчеты проводились с
учетом элементного состава КТ и реальной геометрии нанообъектов. Получено, что деформационное
поле нанодиска играет ключевую роль в реализации одновременной локализации электронов в
разных Δ долинах, позволяя регулировать положение энергетических уровней электронов.
Полученные результаты могут лечь в основу создания базовых элементов для квантовых вычислений
на основе структур с Ge/Si КТ.