{"title":"Управление электронной локализацией за счет деформационных\nполей в группах Ge/Si квантовых точек / Зиновьева А.Ф., Зиновьев В.А., Ненашев А.В., Кулик Л.В., Двуреченский А.В.","authors":"","doi":"10.34077/semicond2019-290","DOIUrl":null,"url":null,"abstract":"Новые тенденции в электронике требуют создания полупроводниковых наноструктур с\nконтролируемыми оптическими и спиновыми свойствами. Одной из перспективных систем для\nманипулирования электронной структурой является система с Ge/Si квантовыми точками (КТ),\nсоздаваемыми за счет самоорганизации в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Здесь электроны\nлокализуются за счет деформаций в потенциальных ямах в Si вблизи КТ. Меняя пространственную\nконфигурацию КT, их размер, форму, взаимное\nрасположение, можно контролировать\nраспределение деформаций, и соответственно\nэнергетический спектр электронов.\nВ данной работе были разработаны и\nсозданы специальные структуры с Ge/Si КТ,\nпозволяющие реализовать одновременную\nлокализацию электронов в разных Δ долинах в\nупорядоченной группе КТ [1]. Электроны имеют\nразную пространственную локализацию (один\nлокализован на вершине КТ, а другой на одном из\nребер основания КТ), характеризуются разными gфакторами и могут рассматриваться как пара\nкубитов, связанных постоянным обменным\nвзаимодействием. Структуры представляют собой\nкомбинацию (~200 нм) больших дискообразных\nКТ (нанодисков) и групп КТ меньшего размера\n(~30 нм), выращенных на расстоянии 35 нм от слоя нанодисков. Для увеличения деформаций и,\nсоответственно, энергии связи электронов на КТ, были выращены 4-слойные стеки упорядоченных\nгрупп КТ с различным расстоянием между слоями КТ в стеке d. Для локализации электронов в\nбоковых Δx,y долинах было использовано расстояние d=3 нм. Для одновременной локализации\nэлектронов в разных Δ долинах была создана структура с варьируемым расстояние d в стеке: между\n2-м и 3-м слоем КТ d=5 нм, остальные прослойки имели толщину d=3 нм. Локализация электронов\nбыла исследована методом ЭПР. Интерпретация результатов ЭПР была проведена на основе анализа\nзначений g-факторов и их ориентационных зависимостей и сопоставления с результатами\nвычислений энергетического спектра и волновых функций электронов. Расчеты проводились с\nучетом элементного состава КТ и реальной геометрии нанообъектов. Получено, что деформационное\nполе нанодиска играет ключевую роль в реализации одновременной локализации электронов в\nразных Δ долинах, позволяя регулировать положение энергетических уровней электронов.\nПолученные результаты могут лечь в основу создания базовых элементов для квантовых вычислений\nна основе структур с Ge/Si КТ.","PeriodicalId":213356,"journal":{"name":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","volume":"275 1","pages":"0"},"PeriodicalIF":0.0000,"publicationDate":"2019-09-05","publicationTypes":"Journal Article","fieldsOfStudy":null,"isOpenAccess":false,"openAccessPdf":"","citationCount":"0","resultStr":null,"platform":"Semanticscholar","paperid":null,"PeriodicalName":"Тезисы докладов XIV РОССИЙСКОЙ КОНФЕРЕНЦИИ ПО ФИЗИКЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ «ПОЛУПРОВОДНИКИ-2019»","FirstCategoryId":"1085","ListUrlMain":"https://doi.org/10.34077/semicond2019-290","RegionNum":0,"RegionCategory":null,"ArticlePicture":[],"TitleCN":null,"AbstractTextCN":null,"PMCID":null,"EPubDate":"","PubModel":"","JCR":"","JCRName":"","Score":null,"Total":0}
引用次数: 0

摘要

电子领域的新趋势需要设计一种由光学和自旋特性组成的半导体纳米技术。电子结构管理的一个很有前途的系统是在分子束冲击过程中通过自我组织创造的量子点(kt)系统。在这里,电子通过kt附近Si潜在坑的变形来定位。通过改变kt的空间配置,它们的大小、形状、相互位置,可以控制变形的分布和相应的电子能谱。在丹麦工作与Geисозда特殊结构制定kt / Siодновременнуюлокализац允许实现电子在不同腐蚀вупорядочен谷组ct[1]。电子有不同的空间本地化(kt顶部的11个本地化,kt基础上的1个本地化),其特征是不同的g因子,可以被看作是由不断变化的互换连接的副立方体。结构是大型圆盘(200纳米)和小型kt(30纳米)组(35纳米)的组合。为了增加变形,因此电子结合能ct,培育4层堆栈упорядоченныхгрупп栈中的ct kt与不同层之间的距离d为本地化电子вбоков腐蚀x, y山谷。使用距离d = 3 nm。同时локализацииэлектрон不同腐蚀山谷被创造结构在栈:между2варьируем距离d和第三层ct d = 5 nm,其余层厚度d = 3 nm。电子本地化是通过epr方法研究的。对epr结果的解释是基于g因子及其定向依附性的分析,并与能量谱和波函数的计算结果进行比较。计算是由kt元素元素和纳米物体的实际几何组成的。得到деформационноеполнанодиск同时实现本地化电子вразн扮演关键角色自山谷,让监管规定电子能级。结果可以作为基于通用/Si kt结构为量子计算创建基本元素的基础。
本文章由计算机程序翻译,如有差异,请以英文原文为准。
Управление электронной локализацией за счет деформационных полей в группах Ge/Si квантовых точек / Зиновьева А.Ф., Зиновьев В.А., Ненашев А.В., Кулик Л.В., Двуреченский А.В.
Новые тенденции в электронике требуют создания полупроводниковых наноструктур с контролируемыми оптическими и спиновыми свойствами. Одной из перспективных систем для манипулирования электронной структурой является система с Ge/Si квантовыми точками (КТ), создаваемыми за счет самоорганизации в процессе молекулярно-лучевой эпитаксии. Здесь электроны локализуются за счет деформаций в потенциальных ямах в Si вблизи КТ. Меняя пространственную конфигурацию КT, их размер, форму, взаимное расположение, можно контролировать распределение деформаций, и соответственно энергетический спектр электронов. В данной работе были разработаны и созданы специальные структуры с Ge/Si КТ, позволяющие реализовать одновременную локализацию электронов в разных Δ долинах в упорядоченной группе КТ [1]. Электроны имеют разную пространственную локализацию (один локализован на вершине КТ, а другой на одном из ребер основания КТ), характеризуются разными gфакторами и могут рассматриваться как пара кубитов, связанных постоянным обменным взаимодействием. Структуры представляют собой комбинацию (~200 нм) больших дискообразных КТ (нанодисков) и групп КТ меньшего размера (~30 нм), выращенных на расстоянии 35 нм от слоя нанодисков. Для увеличения деформаций и, соответственно, энергии связи электронов на КТ, были выращены 4-слойные стеки упорядоченных групп КТ с различным расстоянием между слоями КТ в стеке d. Для локализации электронов в боковых Δx,y долинах было использовано расстояние d=3 нм. Для одновременной локализации электронов в разных Δ долинах была создана структура с варьируемым расстояние d в стеке: между 2-м и 3-м слоем КТ d=5 нм, остальные прослойки имели толщину d=3 нм. Локализация электронов была исследована методом ЭПР. Интерпретация результатов ЭПР была проведена на основе анализа значений g-факторов и их ориентационных зависимостей и сопоставления с результатами вычислений энергетического спектра и волновых функций электронов. Расчеты проводились с учетом элементного состава КТ и реальной геометрии нанообъектов. Получено, что деформационное поле нанодиска играет ключевую роль в реализации одновременной локализации электронов в разных Δ долинах, позволяя регулировать положение энергетических уровней электронов. Полученные результаты могут лечь в основу создания базовых элементов для квантовых вычислений на основе структур с Ge/Si КТ.
求助全文
通过发布文献求助,成功后即可免费获取论文全文。 去求助
来源期刊
自引率
0.00%
发文量
0
×
引用
GB/T 7714-2015
复制
MLA
复制
APA
复制
导出至
BibTeX EndNote RefMan NoteFirst NoteExpress
×
提示
您的信息不完整,为了账户安全,请先补充。
现在去补充
×
提示
您因"违规操作"
具体请查看互助需知
我知道了
×
提示
确定
请完成安全验证×
copy
已复制链接
快去分享给好友吧!
我知道了
右上角分享
点击右上角分享
0
联系我们:info@booksci.cn Book学术提供免费学术资源搜索服务,方便国内外学者检索中英文文献。致力于提供最便捷和优质的服务体验。 Copyright © 2023 布克学术 All rights reserved.
京ICP备2023020795号-1
ghs 京公网安备 11010802042870号
Book学术文献互助
Book学术文献互助群
群 号:604180095
Book学术官方微信