用激光写入直接生成IC图案

1980 IEEE International Solid-State Circuits Conference. Digest of Technical Papers Pub Date : 1900-01-01 DOI:10.1109/ISSCC.1980.1156073

J. Moulic, W. Kleinfelder

引用次数: 1

摘要

一个灵活的IC模式生成激光器，工具允许修改的特征，通过直接光刻胶曝光，同时查看现有的模式，将涵盖。该技术消除了精密配准对准的需要。

本文章由计算机程序翻译，如有差异，请以英文原文为准。

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1980 IEEE International Solid-State Circuits Conference. Digest of Technical Papers

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