Optimization of defect compensation for extreme ultraviolet lithography mask by covariance-matrix-adaption evolution strategy (Erratum)

IF 1.5 2区物理与天体物理 Q3 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Pub Date : 2019-02-27 DOI:10.1117/1.jmm.18.1.019801

Heng Zhang, Sikun Li, Xiang-zhao Wang, Chaoxing Yang, Wei Cheng

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Abstract

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Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Multiple-

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