Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS

SCI期刊
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
中文名称:
微纳光刻技术杂志
期刊缩写:
J MICRO-NANOLITH MEM
影响因子:
1.5
ISSN:
print: 1932-5150
on-line: 2708-8340
研究领域:
Multiple-
自引率:
30.40%
Gold OA文章占比:
26.32%
原创研究文献占比:
95.00%
SCI收录类型:
Science Citation Index Expanded (SCIE)
CiteScore:
CiteScoreSJRSNIPCiteScore排名
3.40.3931.723
学科
排名
百分位
大类:Engineering
小类:Mechanical Engineering
299 / 672
55%
大类:Engineering
小类:Electrical and Electronic Engineering
389 / 797
51%
大类:Physics and Astronomy
小类:Atomic and Molecular Physics, and Optics
113 / 224
49%
大类:Physics and Astronomy
小类:Condensed Matter Physics
223 / 434
48%
大类:Materials Science
小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials
155 / 284
45%
发文信息
中科院SCI期刊分区
大类 小类 TOP期刊 综述期刊
2区 物理与天体物理
3区 工程:电子与电气 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
3区 材料科学:综合 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
3区 纳米科技 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
3区 光学 OPTICS
WOS期刊分区
学科分类
Q3ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC
Q4MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY
Q4NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY
Q3OPTICS
历年影响因子
2016年1.3350
2017年1.3500
2018年1.2990
2019年1.1930
2020年1.5590
2021年1.2200
2022年2.3000
2023年1.5000
历年发表
2012年115
2013年129
2014年131
2015年125
2016年131
2017年86
2018年82
2019年63
2020年32
2021年0
2022年0
投稿信息
审稿时长:
6-12 weeks
出版商:
SPIE

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS - 最新文献

Rayleigh or Abbe? Origin and naming of the resolution formula of microlithography

Pub Date : 2020-11-06 DOI: 10.1117/1.jmm.19.4.040501 A. Yen

JM3 is Gone, Long Live JM3!

Pub Date : 2020-10-20 DOI: 10.1117/1.jmm.19.4.040101 H. Levinson, H. Zappe

Perspectives and tradeoffs of absorber materials for high NA EUV lithography

Pub Date : 2020-10-01 DOI: 10.1117/1.JMM.19.4.041001 A. Erdmann, H. Mesilhy, P. Evanschitzky, V. Philipsen, F. Timmermans, Markus Bauer
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