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Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS

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3836

中科院SCI期刊分区 WOS期刊分区历年影响因子历年发表同类期刊

中文名称：

微纳光刻技术杂志

期刊缩写：

J MICRO-NANOLITH MEM

影响因子：

1.5

ISSN：

print: 1932-5150
on-line: 2708-8340

研究领域：

Multiple

自引率：

30.40%

Gold OA文章占比：

26.32%

原创研究文献占比：

95.00%

SCI收录类型：

Science Citation Index Expanded (SCIE)

CiteScore：

CiteScore	SJR	SNIP	CiteScore排名
3.4	0.393	1.723	学科排名百分位大类：Engineering 小类：Mechanical Engineering 299 / 672 55% 大类：Engineering 小类：Electrical and Electronic Engineering 389 / 797 51% 大类：Physics and Astronomy 小类：Atomic and Molecular Physics, and Optics 113 / 224 49% 大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics 223 / 434 48% 大类：Materials Science 小类：Electronic, Optical and Magnetic Materials 155 / 284 45%

发文信息

中科院SCI期刊分区

大类	小类	TOP期刊	综述期刊
2区物理与天体物理	3区工程：电子与电气 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 3区材料科学：综合 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 3区纳米科技 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 3区光学 OPTICS	否	否

WOS期刊分区

学科分类
Q3ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC Q4MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY Q4NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY Q3OPTICS

历年影响因子

2016年	1.3350
2017年	1.3500
2018年	1.2990
2019年	1.1930
2020年	1.5590
2021年	1.2200
2022年	2.3000
2023年	1.5000

历年发表

2012年	115
2013年	129
2014年	131
2015年	125
2016年	131
2017年	86
2018年	82
2019年	63
2020年	32
2021年	0
2022年	0

投稿信息

审稿时长：

6-12 weeks

出版商：

SPIE

PubMed链接：

http://www.ncbi.nlm.nih.gov/nlmcatalog?term=1932-5150%5BISSN%5D

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS - 最新文献

Rayleigh or Abbe? Origin and naming of the resolution formula of microlithography

Pub Date : 2020-11-06 DOI: 10.1117/1.jmm.19.4.040501 A. Yen

JM3 is Gone, Long Live JM3!

Pub Date : 2020-10-20 DOI: 10.1117/1.jmm.19.4.040101 H. Levinson, H. Zappe

Perspectives and tradeoffs of absorber materials for high NA EUV lithography

Pub Date : 2020-10-01 DOI: 10.1117/1.JMM.19.4.041001 A. Erdmann, H. Mesilhy, P. Evanschitzky, V. Philipsen, F. Timmermans, Markus Bauer

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