Lithography materials guidelines

IF 1.5 2区物理与天体物理 Q3 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC

Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Pub Date : 2020-08-04 DOI:10.1117/1.jmm.19.3.030101

H. Levinson

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Abstract

JM3 Co-Editor-in-Chief Harry Levinson introduces new guidelines regarding materials for lithography.

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光刻材料指南

JM3联合主编Harry Levinson介绍了关于光刻材料的新指南。

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Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Multiple-

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