Chemical Etching and Polishing of InP

Abstract

This paper describes possibilities of several chemical preparations for the selective cleaning of InP surfaces. The investigations of the surface states after the chemical treatment were carried out by means of XPS measurements. A pre-etching with (NH4)2S2O8:H2SO4:H2O and a polishing with 1% bromine in methanol produce optically smooth (100)- and (111) P surfaces free of oxides. In dieser Arbeit sind verschiedene Moglichkeiten der selektiven Reinigung von In P-Oberflachen aufgezeigt. Die Untersuchungen der Oberflachenzustande nach der chemischen Behandlung wurden mittels XPS-Messungen durchgefuhrt. Mit einem Voratzer, bestehend aus (NH4)2S2O8: H2O und einem Poliermittel aus Br2: CH3OH (1%) konnen glatte und oxidfreie (100)- und (111) P-Oberflachen erhalten werden.